Фізико-технологічні основи металізації інтегральних схем

Розділ 3. Методи Металізації Інтегральних Схем.В даній курсовій роботі розглянуто компоненти та елементи інтегральних мікросхем.Розділ 1. Елементи І Компоненти Інтегральних Мікросхем.Підкладки інтегральних схем.Розділ 2. Технологія Виробництва Інтегральних Мікросхем.З курсу Технологічні основи електроніки.На основі керметів, до складу яких входять хром і монооксид кремнію, отримують високоомні резистори.Не дивлячись на недоліки масковий метод є найпростішим, технологічнішим і високопродуктивним.У основі електрохімічного осадження лежить електроліз розчину, що містить іони необхідних домішок.Малышев И.А. Технология производства интегральных микросхем.