Методи одержання і вимоги до діелектричних плівок

Існує ряд методів одержання тонких діелектричних плівок.Одним із найкращих методів одержання діелектричних плівок є термовакуумне напилення.Для формування плівок двоокис кремнію використовують декілька методів осадження.Схематично зображена установка для напилення плівок термовакуумним методом.Б показана схема основної частини установки для напилення діелектричних тонких плівок.Осадження плівок широко використовується при розробці елементів сучасних інтегральних схем.Багато є також методів змішання, які бувають більш вдосконаленими.Великою перевагою методу іонно-плазмового розпилення є його неінерційність.Якщо відключити напругу розпилення матеріалу зразу перестає, на відміну від інших методів.Властивості таких плівок залежить від вмісту електролітів.