Основы фотолитографического процесса

Организация производства фотолитографического процесса.1 показано схематическое изображение литографического процесса.Процесс испарения растворителя играет важную роль в образовании пленки.Хорошо приспособлены к автоматизация массовые процессы - проявление, промывка, сушка.Черняев В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров.Формирование слоя фоторезиста.По способу образования рельефа фоторезисты удобно делить на два класса: негативные и позитивные.Различия в поведении фоторезистов обоих классов показаны на рис.1-1. Негативные фоторезисты под действием актиничного излучения образуют защитные участки рельефа.Фотохимическая активация, может быть прямой и сенсибилизированной.