Моделирование процессов ионной имплантации

Общие сведения о процессе ионной имплантации.Схема установки для ионной имплантации приведена на рис.Назначение Ионной Имплантации.Тема: Математическое моделирование ионно-имплантированных структур.СБИС является процесс ионного легирования кремния.При этом имплантация проводится с малой энергией ионов.Такие слои очень сложно сформировать путем имплантации ионов В+.Кроме того, использование молекулы ВF2 имеет преимущество при проведении процесса отжига структур.Расчет профилей распределения концентрации внедренных примесей в структурах с двойной имплантацией.Rm - модальная длина пробега (аналог проекционной длины пробега при.