Анализ свойств, методов получения и применение сегнетоэлектрических тонких пленок

Рисунок 2.2 - Спектры рентгенофлуоресцентного анализа пленок YSZ.В работах [1, 2] пленки YSZ наносились методом ВЧ магнетронного распыления.В работе [3, 4] использовался метод ВЧ магнетронного распыления мозаичных Zr-Y мишеней.При этом методом магнетронного распыления наносится тонкий слой пористой платины.Каждой подобласти приписан определенный набор физических свойств.Установлены особенности формирования пленок твердого электролита на Si3N4/Si и Al2O3 подложках.Проведены исследования компонентного состава пленок YSZ, нанесенных на поликоровые подложки.Слой Ti толщиной 50 нм наносился методом магнетронного распыления.Пленки наносились на Si3N4 (1000 нм) /Si (100) подложки методом ВЧ магнетронного распыления.Получены зависимости проводимости слоев катодного электрода от температуры.