Влажное травление - изотропный процесс, что приводит к формированию рисунка с наклонными стенками.Влажное травление требует многоступенчатой промывки и сушки.Сильное влияние на скорость травления оказывает правильный выбор реактивного газа или смеси газов.Сухие плазменные процессы имеют достаточно высокие скорости травления резистов.Снижение концентрации реактивного газа при завершении процесса травления.Возможность травления структур с высоким отношением высоты линии к ее ширине.Приведены основные плазмообразующие газы используемые для реактивного травления.Материалы для которых необходимы процессы травления.Анализ ключевых аспектов плазменного травления.Выбор оптимальной скорости травления.