Субмикронная литография

Перспективы развития фотолитографии.Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия.Процесс изготовления фотошаблонов важен для оптической литографии.В настоящее время оригинал фотошаблона изготавливается методом ЭЛ-литографии.Внутренние и взаимные эффекты близости являются главными проблемами систем фотолитографии.Эффекты близости - основная проблема ЭЛ литографии.Для того чтобы рентгеновская литография стала технологичной, нужно решить ряд важных проблем.В ионно-лучевой литографии используются шаблоны типа металл на кремний или трафаретные.Здесь пригодны схемы совмещения, разработанные для установок рентгеновской литографии.Высокого разрешения для формирования субмикронных изображений.