Литография высокого разрешения в технологии полупроводников

Наряду с высоким разрешением достигнута приемлемая производитель-ность систем ЭЛ экспонирования.Для того чтобы рентгеновская литография стала технологичной, нужно решить ряд важных проблем.Высокого разрешения для формирования субмикронных изображений.Литография высоких энергий делится на.Перспективы развития фотолитографии.Поглощение излучения высоких энергий.Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия.Процесс изготовления фотошаблонов важен для оптической литографии.В настоящее время оригинал фотошаблона изготавливается методом ЭЛ-литографии.Внутренние и взаимные эффекты близости являются главными проблемами систем фотолитографии.